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谢常青; 叶甜青; 孙宝银; 赵玲利; 李兵;
中国电子学会;
X射线光刻; 同步辐射; 移相;
机译:自由基OP·(OPr〜i)_2,Me_3C·和Me(CH_2)_3C·H_2加至甲醇[60]富勒烯C_(60)CX〜1X2(X〜1 = X〜2 = COE_2Et; X〜1 =СО_2Ме,X〜2
机译:平移对称交替移相掩模光栅标记在光刻投影像差线性测量模型中的应用
机译:限制基本天然氨基酸的X空间:环丁烷衍生的X1,X2约束的精氨酸,赖氨酸和鸟氨酸类似物
机译:优化移相标记原位测量光刻工具中投射光学异常的方法
机译:全透明,激光微加工,芯片实验室的装置,用于微米和纳米粒子的介电泳操作
机译:使用纳米压印光刻技术制造全透明的基于聚合物的封装纳米流体器件
机译:通过拟合磁测量数据获得的I相BNL X射线光刻源的晶格特性。
机译:X射线分析装置及X射线分析方法
机译:移相掩模相移角,光刻工艺和移相掩模的检测方法
机译:制作具有三个或更多个移相的移相光刻模板的自对准方法
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