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FERROELECTRIC MEMORY DEVICE WITH SELECT GATE TRANSISTOR AND METHOD OF FORMING THE SAME

机译:具有选择栅极晶体管的铁电存储器件及其形成方法

摘要

A memory cell includes a ferroelectric memory transistor, and a select gate transistor which shares a common semiconductor channel, a common source region and a common drain region with the ferroelectric memory transistor. The select gate transistor controls access between the common source region and the common semiconductor channel.
机译:存储器单元包括铁电存储器晶体管,以及与铁电存储器晶体管共享公共半导体通道,公共源区和公共漏区的选择栅极晶体管。 选择栅极晶体管控制公共源区和公共半导体通道之间的访问。

著录项

  • 公开/公告号EP3881355A1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-09-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SANDISK TECHNOLOGIES LLC;

    申请/专利号EP20190934798

  • 发明设计人 ALSMEIER JOHANN;ZHANG YANLI;

    申请日2019-12-30

  • 分类号H01L27/07;G11C11/22;H01L27/105;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-24 21:11:11

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