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Ferroelectric memory device with select gate transistor and method of forming the same

机译:具有选择栅极晶体管的铁电存储器件和形成相同的方法

摘要

A memory cell includes a ferroelectric memory transistor, and a select gate transistor which shares a common semiconductor channel, a common source region and a common drain region with the ferroelectric memory transistor. The select gate transistor controls access between the common source region and the common semiconductor channel.
机译:存储器单元包括铁电存储器晶体管和选择栅极晶体管,其与铁电存储器晶体管共享公共半导体通道,公共源区和公共漏区。选择栅极晶体管控制公共源区和公共半导体通道之间的访问。

著录项

  • 公开/公告号US10978482B2

    专利类型

  • 公开/公告日2021-04-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SANDISK TECHNOLOGIES LLC;

    申请/专利号US201916456736

  • 发明设计人 JOHANN ALSMEIER;YANLI ZHANG;

    申请日2019-06-28

  • 分类号H01L27/1159;H01L27/11597;H01L29/423;H01L29/78;G11C11/22;H01L29/66;H01L21/28;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 18:10:47

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