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Ferroelectric memory device including series-connected select gate transistors and method of forming the same

机译:包括串联连接的选择栅极晶体管的铁电存储器件和形成相同的方法

摘要

The ferroelectric memory unit cell includes a ferroelectric memory transistor and a series connection of select gate transistors that turn on and off the ferroelectric memory unit cell. Data is stored in the ferroelectric material layer of the ferroelectric memory transistor. The ferroelectric memory unit cell may be of a planar structure, wherein both transistors are planar transistors with horizontal current directions. In this case, the gate electrode of the access transistor may be formed as a buried conductive line. Alternatively, the ferroelectric memory unit cell may comprise a vertical stack of vertical semiconductor channels.
机译:铁电存储器单元电池包括铁电存储器晶体管和选择栅极晶体管的串联连接,所述选择栅极晶体管接通和断开铁电存储器单元电池。 数据存储在铁电存储器晶体管的铁电材料层中。 铁电存储器单元电池可以是平面结构,其中两个晶体管是具有水平电流方向的平面晶体管。 在这种情况下,接入晶体管的栅极可以形成为掩埋导线。 或者,铁电存储器单元电池可包括垂直叠层的垂直半导体通道。

著录项

  • 公开/公告号KR20210091794A

    专利类型

  • 公开/公告日2021-07-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 샌디스크 테크놀로지스 엘엘씨;

    申请/专利号KR20217018742

  • 发明设计人 장 얀리;알스메이어 조한;

    申请日2019-12-30

  • 分类号H01L27/11597;G11C11/22;H01L27/1159;H01L29/51;H01L29/78;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-24 20:24:58

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