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Ferroelectric memory device having select gate transistor and method of forming same

机译:具有选择栅极晶体管的铁电存储器件及其形成方法

摘要

The memory cell includes a ferroelectric memory transistor and a select gate transistor that shares a common semiconductor channel, a common source region, and a common drain region with the ferroelectric memory transistor. The select gate transistor controls access between the common source region and the common semiconductor channel.
机译:存储器单元包括铁电存储器晶体管和选择公共半导体通道,公共源区和具有铁电存储器晶体管的公共漏极区的选择栅极晶体管。 选择栅极晶体管控制公共源区和公共半导体通道之间的访问。

著录项

  • 公开/公告号KR20210095182A

    专利类型

  • 公开/公告日2021-07-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 샌디스크 테크놀로지스 엘엘씨;

    申请/专利号KR20217019530

  • 发明设计人 알스마이어 요한;장 옌리;

    申请日2019-12-30

  • 分类号H01L27/1159;G11C11/22;H01L21/28;H01L27/11587;H01L29/66;H01L29/78;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-24 20:26:37

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