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process for producing hard, haftfesten practically absorptionsfreien thin layers

机译:硬的,几乎没有吸收的薄膜的生产方法

摘要

1,183,979. Coating by vapour deposition. BALZERS PATENT-und BETEILIGUNGS A.G. Sept.22, 1967 [Oct.29, 1966], No.43240/67. Heading C7F. [Also in Division C1] In the vapour deposition of e.g. titanium or silicon oxides or both in alternate layers, the material to be deposited is subjected to ultraviolet radiation simultaneously with deposition. The vapour deposition takes place in a reactive atmosphere e.g. oxygen.
机译:1,183,979。通过气相沉积进行涂层。 BALZERS PATENT-BETEILIGUNGS A.G. 1967年9月22日[1966年10月29日],第43240/67号。标题C7F。 [也在C1部分中]在例如气相沉积中。钛或硅氧化物或两者交替使用时,要沉积的材料在沉积的同时要经受紫外线辐射。气相沉积发生在反应性气氛如氧。

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