Method of deposition of metals in a thin layer on a substrate that are not metallic, with intermediate depot of hydrides by reactive cathodic sputtering

机译： 在非金属基板上沉积金属薄层的方法，通过反应性阴极溅射进行氢化物的中间沉积

机译： 一种通过真空气相沉积，阴极溅射工艺或电解沉积在特别光滑的金属基板上制备可磁化薄层的方法

机译： 用于在高真空下通过物理气相沉积生产薄金属层的溅射阴极沉积单元，具有在真空室和阴极外壳之间使用狭缝的差动泵级