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LASER DIODE WITH BURIED ACTIVE LAYER AND LATERAL CURRENT LIMITING AND PROCESS FOR ITS MANUFACTURE

机译:具有埋入式有源层和横向电流限制的激光二极管及其制造方法

摘要

PCT No. PCT/DE88/00234 Sec. 371 Date Dec. 18, 1989 Sec. 102(e) Date Dec. 18, 1989 PCT Filed Apr. 18, 1988 PCT Pub. No. WO88/08215 PCT Pub. Date Oct. 20, 1988.Laser diode with BH double hetero-structure and lateral channels for lateral current limitation, whereby the laser-active stripes are provided with lateral spacer layers and these spacer layers are fashioned before the etching of the lateral channels of a semiconductor material that cannot be attached by the etchant, so that the laser-active stripes have an undamaged, straight line, lateral limitation. This laser diode has a low threshold current and a high differential efficiency given a high output power. Parasitic capacitances are voided by transverse channels and a structured metal contact.
机译:PCT号PCT / DE88 / 00234 371日期1989年12月18日102(e)1989年12月18日PCT申请日期1988年4月18日PCT公开WO88 / 08215 PCT公开号日期为1988年10月20日,具有BH双异质结构和横向沟道的激光二极管,用于限制横向电流,从而在激光活性条纹上提供横向间隔层,并在蚀刻硅衬底的横向沟道之前形成这些间隔层半导体材料不能被蚀刻剂附着,因此激光活性条具有不受损坏的直线横向限制。给定高输出功率,该激光二极管具有低阈值电流和高差分效率。横向通道和结构化的金属触点会消除寄生电容。

著录项

  • 公开/公告号EP0432150B1

    专利类型

  • 公开/公告日1993-01-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT;

    申请/专利号EP19880903178

  • 发明设计人 THULKE WOLFGANG;

    申请日1988-04-18

  • 分类号H01S3/19;H01S3/06;H01S3/25;H01L33/00;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-22 05:06:16

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