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Lateral PNP transistor using a latch voltage of NPN transistor

机译:使用NPN晶体管的锁存电压的横向PNP晶体管

摘要

A lateral PNP transistor having either of the collector or the emitter diffusion layers layered with an n.sup.+ type diffusion layer, is shown. The added layer serves to increase the static electricity withstand stress along a transistor discharging path. A low withstand stress contributes to transistor damage at high breakdown voltages. When an n. sup.+ diffusion layer is formed within a diffusion layer in a lateral PNP transistor the transistor behaves as a combination of two transistors, PNP and NPN, selectively configured.
机译:示出了横向PNP晶体管,该横向PNP晶体管具有集电极或发射极扩散层或n +扩散层。所增加的层用于增加沿着晶体管放电路径的静电承受应力。低的耐应力会在高击穿电压下导致晶体管损坏。当一个在横向PNP晶体管的扩散层内形成sup +扩散层,该晶体管的行为表现为选择性配置的两个晶体管PNP和NPN的组合。

著录项

  • 公开/公告号US5237198A

    专利类型

  • 公开/公告日1993-08-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD.;

    申请/专利号US19920860271

  • 发明设计人 HO-JIN LEE;

    申请日1992-04-01

  • 分类号H01L29/72;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 04:57:56

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