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Photoimageable compositions comprising polyquinoline polymer and photogenerable acid precursor

机译:包含聚喹啉聚合物和可光酸前体的可光成像组合物

摘要

Photoimageable polyquinoline compositions comprise a polyquinoline polymer, a photogenerable acid precursor and optionally a photosensitizer. The composition is prepared by dissolving the polyquinoline polymer, photogenerable acid precursor and photosensitizer in a polar solvent to form a solution, coating the solution onto a substrate and thereafter removing the solvent to form a film. The film is exposed to light through a photo mask and developed by immersion in a selective solvent to yield a photopatterned dielectric film.
机译:可光成像的聚喹啉组合物包含聚喹啉聚合物,可光致酸的前体和任选的光敏剂。通过将聚喹啉聚合物,可光致酸的前体和光敏剂溶解在极性溶剂中以形成溶液,将该溶液涂覆在基材上,然后除去溶剂以形成膜来制备该组合物。该膜通过光掩模暴露于光,并通过浸入选择性溶剂中而显影以产生光致图案化的介电膜。

著录项

  • 公开/公告号US5885745A

    专利类型

  • 公开/公告日1999-03-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HITACHI CHEMICAL CO. LTD.;

    申请/专利号US19970845902

  • 发明设计人 MATTHEW L. MARROCCO III;

    申请日1997-04-28

  • 分类号G03F7/004;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 02:08:25

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