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Method for processing oxide-confined VCSEL semiconductor devices

机译:氧化物受限的vcsel半导体器件的加工方法

摘要

A method of manufacturing a vertical cavity surface emitting laser on a substrate by forming a first parallel stack of mirrors on the substrate; forming an active and spacer layer on the first parallel mirror stack; and forming a second parallel mirror stack on the active and spacer layer. The second parallel mirror stack is then etched to define a structure; followed by oxidizing the peripheral sidewalls of the structure to form a current-confining central region in the structure; and etching at least a portion of the outer sidewalls of the structure to remove oxidized material.
机译:一种通过在基板上形成第一平行反射镜堆叠在基板上制造垂直腔表面发射激光器的方法;在第一平行镜叠层上形成有源和隔离层;在有源和隔离层上形成第二平行镜叠层。然后蚀刻第二平行镜叠层以定义结构。接着氧化该结构的外围侧壁以在该结构中形成限流中心区域。蚀刻结构的外侧壁的至少一部分以去除氧化的材料。

著录项

  • 公开/公告号US2005201436A1

    专利类型

  • 公开/公告日2005-09-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DOUG COLLINS;

    申请/专利号US20040800245

  • 发明设计人 DOUG COLLINS;

    申请日2004-03-15

  • 分类号H01S5/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 22:25:23

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