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Creating and applying variable bias rules in rule-based optical proximity correction for reduced complexity

机译:在基于规则的光学邻近校正中创建和应用可变偏差规则,以降低复杂性

摘要

An optical proximity correction (OPC) based integrated circuit design system and method introduce a variable rule in which rules are specified in terms of multiple correction actions that yield acceptable results. This category of rules provides more degrees of freedom in actual application so that the rule-based OPC tool can intelligently select the proper valid rule that minimizes the OPC complexity or meets other objectives.
机译:基于光学邻近校正(OPC)的集成电路设计系统和方法引入了可变规则,其中根据产生可接受结果的多个校正动作来指定规则。此类规则在实际应用中提供了更大的自由度,因此基于规则的OPC工具可以智能地选择适当的有效规则,从而将OPC的复杂性降至最低或满足其他目标。

著录项

  • 公开/公告号US2006085773A1

    专利类型

  • 公开/公告日2006-04-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 YOUPING ZHANG;

    申请/专利号US20050221533

  • 发明设计人 YOUPING ZHANG;

    申请日2005-09-08

  • 分类号G06F17/50;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 21:46:46

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