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Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV
Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV
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1.
1-kW x-pinch soft x-ray source
机译:
1 kW X夹软X射线源
作者:
Steven C. Plidden
;
Applied Pulsed Power
;
Inc.
;
Ithaca
;
NY
;
USA
;
M.R. Richter
;
Applied Pulsed Power
;
Inc.
;
Ithaca
;
NY
;
USA
;
D.A. Hammer
;
Applied Pulsed Power
;
Inc.
;
Ithaca
;
NY
;
USA
;
D.H. Kalantar
;
Applied Pulsed Power
;
Inc.
;
Ithaca
;
NY
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
2.
Neon dense plasma focus point x-ray source for <=0.25 um lithography
机译:
≤0.25um光刻的氖气密集等离子体焦点X射线源
作者:
Rahul R. Prasad
;
Science Research Lab.
;
Alameda
;
CA
;
USA
;
Mahadevan Krishnan
;
Science Research Lab.
;
Alameda
;
CA
;
USA
;
Joseph Mangano
;
Science Research Lab.
;
Arlington
;
VA
;
USA
;
Philip A. Greene
;
Science Research Lab.
;
Alameda
;
CA
;
USA
;
Niansheng Qi
;
Scie
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
3.
Modeling of a positive chemically amplified photoresist for x-ray lithography
机译:
用于X射线光刻的化学放大正性光刻胶的建模
作者:
Azalia A. Krasnoperova
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Steven J. Rhyner
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Yequi Zhu
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
James W. Taylor
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
4.
Miniature electron microscopes for lithography
机译:
用于光刻的微型电子显微镜
作者:
Alan D. Feinerman
;
Univ. of Illinois/Chicago
;
Evanston
;
IL
;
USA
;
David A. Crewe
;
Univ. of Illinois/Chicago
;
Chicago
;
IL
;
USA
;
Dung-Ching Perng
;
Univ. of Illinois/Chicago
;
Chicago
;
IL
;
USA
;
Capp A. Spindt
;
SRI International
;
Menlo Park
;
CA
;
USA
;
Paul R. Sc
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
5.
Interferometric investigation of x-ray mask fabrication distortions
机译:
X射线掩模制作变形的干涉测量研究
作者:
Matthew E. Hansen
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Madison
;
WI
;
USA
;
Roxann L. Engelstad
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Michael T. Reilly
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Frederick T. Moore
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stough
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
6.
Dry-etch characteristics of chemically amplified and onium-salt-sensitized electron-beam resists
机译:
化学放大和盐敏感的电子束抗蚀剂的干法刻蚀特性
作者:
Syed E. Huq
;
Rutherford Appleton Lab.
;
Chilton
;
Didcot
;
Oxon
;
United Kingdom
;
Philip D. Prewett
;
Rutherford Appleton Lab.
;
Abingdon
;
Oxon
;
United Kingdom.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
7.
Characterization of safe solvent PMMA resist variables for electron-beam a
机译:
电子束a的安全溶剂PMMA抗蚀剂变量的表征
作者:
Bruce W. Smith
;
Rochester Institute of Technology
;
Rochester
;
NY
;
USA
;
Todd D. Eakin
;
Rochester Institute of Technology
;
Montgomery
;
PA
;
USA
;
Donald W. Johnson
;
Microlithography Chemical Corp.
;
Watertown
;
MA
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
8.
Cell projection electron-beam lithography
机译:
单元投射电子束光刻
作者:
Norio Saitou
;
Hitachi Central Research Lab.
;
Kokubunji-shi
;
Tokyo
;
Japan
;
Yoshio Sakitani
;
Hitachi Ltd.
;
Katsut
;
Ibaraki
;
Japan.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
9.
Supporting early development of advanced high-performance logic with synchrotron orbital radiation lithography: a feasibility evaluation
机译:
用同步加速器轨道辐射光刻支持早期高性能逻辑的早期开发:可行性评估
作者:
Author(s): Lars W. Liebmann IBM Microelectronics Hopewell Junction NY USA
;
Andrew T. Pomerene IBM Microelectronics Yorktown Heights NY USA
;
Daniel D. DeMay IBM Microelectronics Essex Junction VT USA
;
Angela C. Lamberti IBM Microelectronics H
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
10.
X-ray lithography processing at CXrL from beamline to quarter-micron NMOS devices
机译:
从光束线到四分之一微米NMOS器件的CXrL X射线光刻处理
作者:
Author(s): Ramez Nachman Univ. of Wisconsin/Madison Stoughton WI USA
;
Gong Chen Univ. of Wisconsin/Madison Stoughton WI USA
;
Michael T. Reilly Univ. of Wisconsin/Madison Stoughton WI USA
;
Gregory M. Wells Univ. of Wisconsin/Madison Stoughton
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
11.
Total evaluation of W-Ti absorber for x-ray mask
机译:
X射线掩模用W-Ti吸收剂的总评价
作者:
Kenji Marumoto
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Amagasaki
;
Hyogo
;
Japan
;
Hideki Yabe
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Amagasaki
;
Hyogo
;
Japan
;
Sunao Aya
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Amagasaki
;
Hyogo
;
Japan
;
Koji Kise
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Amagasaki
;
Hyogo
;
Jap
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
12.
Supporting early development of advanced high-performance logic withsynchrotron orbital radiation lithography: a feasibility evaluation,
机译:
通过同步加速器轨道辐射光刻技术支持早期高性能逻辑的早期开发:可行性评估,
作者:
Lars W. Liebmann
;
IBM Microelectronics
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Andrew T. Pomerene
;
IBM Microelectronics
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
Daniel D. DeMay
;
IBM Microelectronics
;
Essex Junction
;
VT
;
USA
;
Angela C. Lamberti
;
IBM Microelectronics
;
Hopewell Jun
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
13.
Techniques for determination of the absorbed energy density function in electron-beam lithography
机译:
电子束光刻中吸收能量密度函数的确定技术
作者:
Sergei V. Babin
;
Physics
;
Technology Institute
;
Moscow
;
Russia.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
14.
Soft x-ray output from the spherical pinch plasma radiation source (SPX II) for microlithography a
机译:
球形微缩等离子体辐射源(SPX II)发出的软X射线用于微光刻a
作者:
Jiong Chen
;
Advanced Laser
;
Fusion Technology
;
Inc.
;
Hull
;
PQ
;
Canada
;
Emilio Panarella
;
Advanced Laser
;
Fusion Technology
;
Inc.
;
Hull
;
PQ
;
Canada
;
B.Hilko
;
Advanced Laser
;
Fusion Technology
;
Inc.
;
Hull
;
PQ
;
Canada
;
H.Chen
;
Advanced Laser
;
Fusion Technology
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
15.
Rule-based approach to e-beam and process-induced proximity effectcorrection for phase-shifting mask fabrication,
机译:
基于规则的电子束和过程引起的相移掩膜制造的邻近效应校正方法,
作者:
Christophe Pierrat
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Joseph G. Garofalo
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
J.DeMarco
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Sheila Vaidya
;
ATT Bell Labs.
;
Murray Hill
;
NJ
;
USA
;
Oberdan W. Otto
;
Trans Vector Tec
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
16.
Reactive-ion etching of tungsten for high-resolution x-ray masks
机译:
钨的反应离子刻蚀,用于高分辨率X射线掩模
作者:
Loretta M. Shirey
;
Naval Research Lab.
;
Washington
;
DC
;
USA
;
Kelly W. Foster
;
Applied Research Corp.
;
Landover
;
MD
;
USA
;
William P. Chu
;
Motorola Inc.
;
Washington
;
DC
;
USA
;
John Kosakowski
;
SFA
;
Inc.
;
Landover
;
MD
;
USA
;
Kee W. Rhee
;
SFA
;
Inc.
;
Landover
;
M
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
17.
application and experimental verification of finite element modeling of frictioneffects for x-ray lithography mask mounts
机译:
射线光刻掩模版摩擦效果有限元建模的应用与实验验证
作者:
Hector T. Chen
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Matthew E. Hansen
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Madison
;
WI
;
USA
;
Roxann L. Engelstad
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
William A. Johnson
;
Motorola
;
Tempe
;
AZ
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
18.
Recent progress in gas field ion source technology
机译:
气田离子源技术的最新进展
作者:
Christoph Wilbertz
;
Max-Planck-Institut fuer Kernphysik
;
Heidelberg I
;
Federal Republic of Germany
;
Thomas Miller
;
Max-Planck-Institut fuer Kernphysik
;
Heidelberg
;
Federal Republic of Germany
;
Sigfried Kalbitzer
;
Max-Planck-Institut fuer Kernphysik
;
Heide
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
19.
Proximity correction of high-dosed frame with PROXECCO
机译:
用PROXECCO校正高剂量框架
作者:
Hans Eisenmann
;
aiss GmbH
;
Munich
;
Federal Republic of Germany
;
Thomas Waas
;
aiss GmbH
;
Munich
;
Federal Republic of Germany
;
Hans Hartmann
;
Fraunhofer-Institute for Solid State Technology
;
Munich
;
Federal Republic of Germany.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
20.
Optimization of ESCAP photoresist for x-ray lithography
机译:
用于X射线光刻的ESCAP光刻胶的优化
作者:
Andrew T. Pomerene
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
Karen Petrillo
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
David E. Seeger
;
IBM Thomas J. Watson Research Ctr.
;
Yorktown Heights
;
NY
;
USA
;
Hiroshi Ito
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
21.
Ion projection: the successor to optical lithography
机译:
离子投影:光学光刻的后继者
作者:
Hans Loeschne
;
Ion Microfabrication Systems GmbH
;
Vienna
;
Austria
;
Gerhard Stengl
;
Ion Microfabrication Systems GmbH
;
Vienna
;
Austria
;
Ivan L. Berry
;
Microelectronics Research Lab.
;
Columbia
;
MD
;
USA
;
John N. Randall
;
Texas Instruments Inc.
;
Dallas
;
TX
;
U
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
22.
Advances in focused ion-beam repair of opaque defects
机译:
聚焦离子束修复不透明缺陷的研究进展
作者:
David C. Ferranti
;
Micrion Corp.
;
Peabody
;
MA
;
USA
;
John C. Morgan
;
Micrion Corp.
;
Peabody
;
MA
;
USA
;
William B. Thompson
;
Micrion Corp.
;
Peabody
;
MA
;
USA
;
William C. Joyce
;
SEMATECH
;
Essex Junction
;
VT
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
23.
Micromechanics for actuators via deep x-ray lithography
机译:
通过深X射线光刻技术对执行器进行微力学
作者:
Henry Guckel
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Madison
;
WI
;
USA
;
Kenneth J. Skrobis
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Madison
;
WI
;
USA
;
Todd R. Christenson
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Madison
;
WI
;
USA
;
J.Klein
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Madison
;
WI
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
24.
Improved proximity correction algorithm for electron-beam lithography
机译:
改进的电子束光刻接近校正算法
作者:
Wu Lu
;
Southeast Univ.
;
Nanjing
;
China
;
Haoying Y. Shen
;
Nanjing Electronic Device Institute
;
Nanjing
;
China
;
Jingxin X. Tao
;
Southeast Univ.
;
Nanjing
;
China
;
Ning Gu
;
Southeast Univ.
;
Nanjing
;
China
;
Yu Wei
;
Southeast Univ.
;
Nanjing
;
China.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
25.
High-sensitivity x-ray mask damage studies employing holographic gratings and phase-shifting interferometry
机译:
使用全息光栅和相移干涉仪的高灵敏度X射线掩模损伤研究
作者:
Matthew E. Hansen
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Madison
;
WI
;
USA
;
Franco Cerrina
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
26.
Effect of condenser mirror surface roughness on partially coherent image formation in proximity x-ray lithography
机译:
聚光镜表面粗糙度对邻近X射线光刻中部分相干成像的影响
作者:
Jiabei Xiao
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Madison
;
WI
;
USA
;
Franco Cerrina
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
27.
Direct inclusion of the proximity effect in the calculation of kinoforms
机译:
在运动形式的计算中直接包含邻近效应
作者:
Jorgen Bengtsson
;
Chalmers Univ. of Technology
;
Goteborg
;
Sweden.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
28.
Development of a membrane-etch wet station for x-ray masks
机译:
开发用于X射线掩模的膜蚀刻湿站
作者:
Susan S. Marine
;
IBM Microelectronics Div.
;
Essex Junction
;
VT
;
USA
;
Douglas E. Benoit
;
IBM Microelectronics Div.
;
Essex Junction
;
VT
;
USA
;
Kevin W. Collins
;
IBM Microelectronics Div.
;
Essex Junction
;
VT
;
USA
;
Kurt R. Kimmel
;
IBM Microelectronics Div.
;
Es
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
29.
Cost of ownership for x-ray proximity lithography
机译:
X射线近接光刻的拥有成本
作者:
Kathy Early
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
William H. Arnold
;
Advanced Micro Devices
;
Inc.
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
30.
Comparison of dry-etch a
机译:
干蚀刻比较
作者:
Elizabeth A. Dobisz
;
Naval Research Lab.
;
Washington
;
DC
;
USA
;
Charles R. Eddy
;
Jr.
;
Naval Research Lab.
;
Washington
;
DC
;
USA
;
John Kosakowski
;
SFA
;
Inc.
;
Landover
;
MD
;
USA
;
Orest J. Glembocki
;
Naval Research Lab.
;
Washington
;
DC
;
USA
;
Loretta M. Shirey
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
31.
Comparative study of x-ray lithography process optimization using theoretical and empirical tools
机译:
使用理论和经验工具进行X射线光刻工艺优化的比较研究
作者:
Whitson G. Waldo
;
Motorola Inc.
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Cristiano Capasso
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Azalia A. Krasnoperova
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Mumit Khan
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Jam
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
32.
Chemically amplified negative resist for e-beam fabrication of x-ray masks
机译:
化学放大负性抗蚀剂,用于X射线掩模的电子束制造
作者:
Ahmad D. Katnani
;
IBM Corp.
;
Poughkeepsie
;
NY
;
USA
;
Janet M. Rocque
;
IBM Corp.
;
Essex Junction
;
VT
;
USA
;
Ranee W. Kwong
;
IBM Corp.
;
Hopewell Junction
;
NY
;
USA
;
Denise Puisto
;
IBM Corp.
;
Essex Junction
;
VT
;
USA
;
Donald K. Bailey
;
IBM Corp.
;
Austin
;
TX
;
USA
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
33.
Alignment accuracy improvement by consideration of wafer processing impacts
机译:
通过考虑晶圆加工的影响来提高对准精度
作者:
Klaus Simon
;
Fraunhofer-Institut fuer Siliziumtechnologie
;
Berlin
;
Federal Republic of Germany
;
H.-U. Scheunemann
;
Fraunhofer-Institut fuer Siliziumtechnologie
;
Berlin
;
Federal Republic of Germany
;
Hans L. Huber
;
Fraunhofer-Institut fuer Siliziumtechnolog
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
34.
Rule-based approach to e-beam and process-induced proximity effect correction for phase-shifting mask fabrication
机译:
基于规则的电子束和工艺引起的相移掩模制造的邻近效应校正方法
作者:
Author(s): Christophe Pierrat ATT Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Joseph G. Garofalo ATT Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
J.DeMarco ATT Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Sheila Vaidya ATT Bell Labs. Murray Hill NJ USA
;
Oberdan W. Otto Trans
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
35.
Development of a laboratory extreme-ultraviolet lithography tool
机译:
开发实验室极紫外光刻工具
作者:
Author(s): Daniel A. Tichenor Sandia National Labs. Livermore CA USA
;
Glenn D. Kubiak Sandia National Labs. Livermore CA USA
;
Michael E. Malinowski Sandia National Labs. Livermore CA USA
;
Richard H. Stulen Sandia National Labs. Livermore CA
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
36.
Vertical lithography: controlling resist profiles in optical lithography with a large area electron beam
机译:
垂直光刻:使用大面积电子束控制光刻中的抗蚀剂轮廓
作者:
William R. Livesay
;
Electron Vision Corp.
;
San Diego
;
CA
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
37.
Very simple data processing system for deep submicron nanofabrication
机译:
用于深亚微米纳米加工的非常简单的数据处理系统
作者:
Shyi-Long Shy
;
National Nano Device Lab.
;
Hsinchu
;
Taiwan
;
T.F. Lei
;
National Nano Device Lab.
;
Hsinchu
;
Taiwan
;
C.H. Chu
;
National Nano Device Lab.
;
Hsinchu
;
Taiwan
;
C.Y. Chang
;
National Nano Device Lab.
;
Hsinchu
;
Taiwan
;
S.H. Lee
;
National Chiao Tung Un
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
38.
22-nm overlay accuracy of synchrotron radiation stepper using an improved chromatic bifocus alignment system
机译:
使用改进的彩色双焦点对准系统的同步加速器辐射步进器的22 nm覆盖精度
作者:
Shiro Hamada
;
Sumitomo Heavy Industries
;
Ltd.
;
Tanasi-City
;
Tokyo
;
Japan
;
Kazuhiro Ito
;
Sumitomo Heavy Industries
;
Ltd.
;
Tanasi-City
;
Tokyo
;
Japan
;
Tsutomu Miyatake
;
Sumitomo Heavy Industries
;
Ltd.
;
Tanasi-City
;
Tokyo
;
Japan
;
Fumiaki Sato
;
Sumitomo Heavy
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
39.
Spectral effects on x-ray lithography
机译:
光谱对X射线光刻的影响
作者:
Whitson G. Waldo
;
Motorola Inc.
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Azalia A. Krasnoperova
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Mumit Khan
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Cristiano Capasso
;
Univ. of Wisconsin/Madison
;
Stoughton
;
WI
;
USA
;
Jam
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
40.
Submicron e-beam lithography process using an overcoating conducting polymer for the reduction of beam charging effects on lithium niobate and quartz
机译:
使用覆盖导电聚合物的亚微米电子束光刻工艺,可降低对铌酸锂和石英的束流电荷效应
作者:
Christine D. Kondek
;
Army Research Lab.
;
Ft. Monmouth
;
NJ
;
USA
;
Louis C. Poli
;
Army Research Lab.
;
Ft. Monmouth
;
NJ
;
USA.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
41.
Synchrotron irradiation stability of x-ray masks utilizing stress-free W-Ti absorbers and SiC membranes
机译:
使用无应力W-Ti吸收剂和SiC膜的X射线掩模的同步辐射稳定性
作者:
Hiroshi Okuyama
;
SORTEC Corp.
;
Ibaraki
;
Japan
;
Yoshio Yamashita
;
SORTEC Corp.
;
Ibaraki
;
Japan
;
Kenji Marumoto
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Amagasaki
;
Hyogo
;
Japan
;
Hideki Yabe
;
Mitsubishi Electric Corp.
;
Amagasaki
;
Hyogo
;
Japan
;
Yasuji Matsui
;
Mitsubishi E
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
42.
Pulsed electron-beam source for high-resolution high-throughput microlithography
机译:
高分辨率高通量微光刻的脉冲电子束源
作者:
Tseng-Yang Hsu
;
Univ. of Southern California
;
Los Angeles
;
CA
;
USA
;
Peyman Hadizad
;
Univ. of Southern California
;
Los Angeles
;
CA
;
USA
;
Rong L. Liou
;
Univ. of Southern California
;
Los Angeles
;
CA
;
USA
;
Greg Roth
;
Univ. of Southern California
;
Los Angeles
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
43.
Overlay measurement and analysis of x-ray/optical lithography for mix-and-match device a
机译:
混合匹配设备的X射线/光学光刻的叠加测量和分析
作者:
Arnold W. Yanof
;
Motorola Inc.
;
Tempe
;
AZ
;
USA
;
Kevin D. Cummings
;
Motorola Inc.
;
Tempe
;
AZ
;
USA
;
Philip A. Seese
;
Motorola Inc.
;
Tempe
;
AZ
;
USA
;
Matt Thompson
;
Motorola Inc.
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Mark Drew
;
Jr.
;
Motorola Inc.
;
Cedar Creek
;
TX
;
USA
;
Daniel D.
会议名称:
《Electron-Beam, X-Ray, and Ion-Beam Submicrometer Lithographies for Manufacturing IV》
|
1994年
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