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Semiconductor component, e.g. power metal oxide semiconductor field effect transistor (MOSFET) includes insulator layer formed by laminating oxide layer and oxynitride layer

机译:半导体组件功率金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)包括通过层压氧化物层和氧氮化物层形成的绝缘层

摘要

At least one gate is formed on the semiconductor body through an insulator layer. The insulator layer is comprised of an oxide layer and a oxynitride layer that are laminated together. An independent claim is also included for a semiconductor component manufacturing method.
机译:通过绝缘体层在半导体本体上形成至少一个栅极。绝缘体层由层叠在一起的氧化物层和氧氮化物层构成。半导体组件制造方法也包括独立权利要求。

著录项

  • 公开/公告号DE102005022391A1

    专利类型

  • 公开/公告日2006-11-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INFINEON TECHNOLOGIES AG;

    申请/专利号DE20051022391

  • 发明设计人 SCHULZE HANS-JOACHIM;SOELKNER GERALD;

    申请日2005-05-13

  • 分类号H01L29/78;H01L21/336;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 20:30:01

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