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Read/Write Margin Improvement in SRAM Design Using Dual-Gate Transistors

机译:使用双栅晶体管改善SRAM设计中的读/写裕量

摘要

An integrated circuit structure includes a static random access memory (SRAM) cell. The SRAM cell includes a pull-up transistor and a pull-down transistor forming an inverter with the pull-up transistor. The pull-down transistor includes a front gate connected to a gate of the pull-up transistor, and a back-gate decoupled from the front gate.
机译:集成电路结构包括静态随机存取存储器(SRAM)单元。 SRAM单元包括与上拉晶体管形成反相器的上拉晶体管和下拉晶体管。下拉晶体管包括连接到上拉晶体管的栅极的前栅极和与前栅极解耦的后栅极。

著录项

  • 公开/公告号US2010165707A1

    专利类型

  • 公开/公告日2010-07-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 YEN-HUEI CHEN;JUI-JEN WU;

    申请/专利号US20080345125

  • 发明设计人 YEN-HUEI CHEN;JUI-JEN WU;

    申请日2008-12-29

  • 分类号G11C11;G11C7;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 18:53:22

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