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OPTICAL PROXIMITY CORRECTION VERIFICATION METHOD USING OPTICAL PARAMETER AND RISK FUNCTION

机译:基于光学参数和风险函数的光学邻近校正验证方法

摘要

PURPOSE: A method for verifying an optical proximity correction(OPC) using an optical parameter and a risk function is provided to improve the efficiency of the OPC by analyzing the kinds of a weak point of the OPC with a statistical method. CONSTITUTION: An OPC model is obtained(S1). An original database is obtained(S2). An optical proximity correction is performed based on the OPC model and the original database(S3). The verification for the OPC is performed(S4). An optical parameter is calculated referring to the verified OPC(S5). A risk function is calculated using the optical parameter(S6). The values of the risk function and normal check result are displayed(S7). Referring to the values of the risk function and the normal check result, a weak point is analyzed(S8).
机译:目的:提供一种使用光学参数和风险函数验证光学邻近校正(OPC)的方法,以通过统计方法分析OPC的弱点种类来提高OPC的效率。组成:获得了一个OPC模型(S1)。获得原始数据库(S2)。基于OPC模型和原始数据库进行光学接近校正(S3)。进行OPC的验证(S4)。参照验证的OPC来计算光学参数(S5)。使用光学参数计算风险函数(S6)。显示风险函数的值和正常检查结果(S7)。参考风险函数的值和正常检查结果,分析薄弱点(S8)。

著录项

  • 公开/公告号KR20100048533A

    专利类型

  • 公开/公告日2010-05-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DONGBU HITEK CO. LTD.;

    申请/专利号KR20080107739

  • 发明设计人 KIM YOUNG MI;

    申请日2008-10-31

  • 分类号H01L21/027;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 18:32:50

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