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STRAINED NMOS TRANSISTOR FEATURING DEEP CARBON DOPED REGIONS AND RAISED DONOR DOPED SOURCE AND DRAIN

机译:应变NMOS晶体管具有深碳掺杂区和掺杂掺杂剂源和漏的特点

摘要

Some embodiments of the present invention include providing carbon doped regions and raised source/drain regions to provide tensile stress in NMOS transistor channels.
机译:本发明的一些实施例包括提供碳掺杂区和升高的源极/漏极区以在NMOS晶体管沟道中提供张应力。

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