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PRINTING MOLD FOR NANOIMPRINT LITHOGRAPHY DEVICE

机译:用于纳米印制术设备的模具印刷

摘要

A nanoimprint lithography device includes a base, a pair of opposite rotator formed on the base, and a printing mold connected to the rotators. The printing mold includes a cylindrical main body having a nanometer-scale pattern formed thereon and a pair of connecting piece detachably connected to the main body. The printing mold is connected to the rotators via the connecting pieces and is configured to be driven by the rotators to print the nanometer-scale pattern on a substrate.
机译:纳米压印光刻设备包括:基底;在基底上形成的一对相对的旋转器;以及连接至旋转器的印刷模具。印刷模具包括:圆筒形主体,其上形成有纳米级图案;以及一对可拆卸地连接至主体的连接件。印刷模具经由连接件连接到旋转器,并且被构造为由旋转器驱动以将纳米级图案印刷在基板上。

著录项

  • 公开/公告号US2011189328A1

    专利类型

  • 公开/公告日2011-08-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HSI-CHANG WU;

    申请/专利号US20100766919

  • 发明设计人 HSI-CHANG WU;

    申请日2010-04-25

  • 分类号B28B11/08;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 18:12:41

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