机译:相变存储装置,包括多孔氧化层中基于纳米线网络的单元素相变层,以及制造该相变存储器的方法,能够同时形成基于单元素的相变层和纳米相层
公开/公告号KR20100137627A
专利类型
公开/公告日2010-12-31
原文格式PDF
申请/专利权人 SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD.;
申请/专利号KR20090055763
发明设计人 LEE TAE YEON;
申请日2009-06-23
分类号H01L21/8247;H01L27/115;
国家 KR
入库时间 2022-08-21 17:53:04