首页> 外国专利> SUBSTRATE DETECTING APPARATUS, SUBSTRATE ALIGNING APPARATUS, SUBSTRATE BONDING APPARATUS HAVING THESE, WAFER OUTER SHAPE DETECTING APPARATUS, WAFER ALIGNING APPARATUS, AND WAFER BONDING APPARATUS HAVING WAFER OUTER SHAPE DETECTING APPARATUS AND WAFER ALIGNING APPARATUS

SUBSTRATE DETECTING APPARATUS, SUBSTRATE ALIGNING APPARATUS, SUBSTRATE BONDING APPARATUS HAVING THESE, WAFER OUTER SHAPE DETECTING APPARATUS, WAFER ALIGNING APPARATUS, AND WAFER BONDING APPARATUS HAVING WAFER OUTER SHAPE DETECTING APPARATUS AND WAFER ALIGNING APPARATUS

机译:具有基板检测装置,基板对准装置,具有基板接合装置的基板,晶片外形检测装置,晶片对准装置,以及晶片接合装置具有晶片外形检测装置和晶片的装置

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To correctly detect a wafer outer shape corresponding to bonded faces in a multilayer wafer in which a plurality of wafers are laminated.;SOLUTION: A wafer outer shape detecting apparatus comprises: a rotating apparatus 12 for rotating a wafer 11; an edge detecting apparatus 15 for detecting the edge of the wafer placed on the rotating apparatus; a servo apparatus 16 for making the edge detecting apparatus follow displacement of the wafer edge; and a position detecting apparatus 17 for detecting the position of the edge detecting apparatus in the radius direction of the wafer.;COPYRIGHT: (C)2014,JPO&INPIT
机译:解决的问题:为了正确地检测与层叠有多个晶片的多层晶片中的接合面相对应的晶片外形。解决方案:晶片外形检测装置包括:用于使晶片11旋转的旋转装置12;以及用于旋转晶片11的旋转装置。边缘检测装置15,用于检测放置在旋转装置上的晶片的边缘。伺服装置16,使边缘检测装置跟随晶片边缘的位移。 COPYRIGHT:(C)2014,JPO&INPIT;和位置检测装置17,用于检测边缘检测装置在晶片半径方向上的位置。

著录项

  • 公开/公告号JP2013258423A

    专利类型

  • 公开/公告日2013-12-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NIKON CORP;

    申请/专利号JP20130167550

  • 发明设计人 TANAKA TOSHIHISA;ONE KAZUYASU;

    申请日2013-08-12

  • 分类号H01L21/02;H01L21/68;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 16:15:16

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