首页> 外国专利> GaN-based semiconductor element

GaN-based semiconductor element

机译:Gan-based semiconductor element

摘要

A GaN-based semiconductor element includes a substrate, a buffer layer formed on the substrate, including an electrically conductive portion, an epitaxial layer formed on the buffer layer, and a metal structure in ohmic contact with the electrically conductive portion of the buffer layer for controlling an electric potential of the buffer layer.
机译:GaN基半导体元件包括:衬底;形成在衬底上的包括导电部分的缓冲层;形成在所述缓冲层上的外延层;以及与所述缓冲层的导电部分欧姆接触的金属结构,用于控制缓冲层的电位。

著录项

  • 公开/公告号US8729603B2

    专利类型

  • 公开/公告日2014-05-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NARIAKI IKEDA;SEIKOH YOSHIDA;

    申请/专利号US201213444936

  • 发明设计人 SEIKOH YOSHIDA;NARIAKI IKEDA;

    申请日2012-04-12

  • 分类号H01L29/205;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 16:04:01

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号