机译:用低温等离子体处理和在微珠底板中进行光催化发射的方法。
公开/公告号JP2015505721A
专利类型
公开/公告日2015-02-26
原文格式PDF
申请/专利权人 ベーウェール;
申请/专利号JP20140543955
申请日2012-11-26
分类号B01J8/02;B01J35/02;A61L9/22;A61L9/00;A61L9/01;B01J8/18;C02F1/32;C02F1/72;B01J20/20;B01J20/18;B01J20/06;A61L9/20;A61L9/16;B01D53/86;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 15:31:12