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PRECURSORS FOR GST FILMS IN ALD/CVD PROCESSES

机译:ALD / CVD工艺中GST薄膜的前体

摘要

A process of making an antimony-containing or bismuth containing film such as a germanium-antimony-tellurium alloy (GST) or germanium-bismuth-tellurium (GBT) film uses a process selected from atomic layer deposition and chemical vapor deposition. A silylantimony precursor or silylbismuth precursor is used as a source of antimony or bismuth.
机译:制备含锑或含铋的膜(例如锗-锑-碲合金(GST)或锗-铋-碲(GBT)的膜)的方法使用选自原子层沉积和化学气相沉积的方法。甲硅烷基锑前体或甲硅烷基铋前体用作锑或铋的来源。

著录项

  • 公开/公告号EP3293193A2

    专利类型

  • 公开/公告日2018-03-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 VERSUM MATERIALS US LLC;

    申请/专利号EP20170190072

  • 发明设计人 XIAO MANCHAO;BUCHANAN IAIN;LEI XINJIAN;

    申请日2013-08-13

  • 分类号C07F9/90;C07F9/94;C07C395;C23C16/18;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 13:16:17

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