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Method for Producing a Semiconductor Body Having a Recombination Zone, Semiconductor Component Having a Recombination Zone, and Method for Producing such a Semiconductor Component

机译:具有重组区域的半导体本体的制造方法,具有重组区域的半导体部件以及该半导体部件的制造方法

摘要

A first part of a semiconductor body is provided. Impurities are introduced into the first part of the semiconductor body, The impurities act as recombination centers in the semiconductor body and form a recombination Zone, and the impurities include at least a heavy metal. A second part of the semiconductor body is epitaxially produced on the first part after introducing the impurities in the first part. During epitaxially producing the second part of the semiconductor body on the first part of the semiconductor body, impurities in the first part of the semiconductor body are diffused to the second part of the semiconductor body.
机译:提供了半导体本体的第一部分。将杂质引入半导体本体的第一部分中,杂质充当半导体本体中的复合中心并形成复合区,并且杂质至少包括重金属。在第一部分中引入杂质之后,在第一部分上外延产生半导体本体的第二部分。在半导体本体的第一部分上外延制造半导体本体的第二部分的过程中,半导体本体的第一部分中的杂质扩散到半导体本体的第二部分。

著录项

  • 公开/公告号US2019074352A1

    专利类型

  • 公开/公告日2019-03-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG;

    申请/专利号US201816181959

  • 发明设计人 FRANK PFIRSCH;HANS-JOACHIM SCHULZE;

    申请日2018-11-06

  • 分类号H01L29/06;H01L29/861;H01L21/265;H01L29/739;H01L29/10;H01L29/78;H01L29/66;H01L29/36;H01L29/167;H01L29/08;H01L21/22;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 12:04:22

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