公开/公告号CN101369095B
专利类型发明专利
公开/公告日2012-07-04
原文格式PDF
申请/专利权人 中华映管股份有限公司;
申请/专利号CN200710142320.0
申请日2007-08-13
分类号
代理机构上海专利商标事务所有限公司;
代理人左一平
地址 中国台湾台北市中山北路三段二十二号
入库时间 2022-08-23 09:10:34
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-09-29
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 1/00 授权公告日:20120704 终止日期:20160813 申请日:20070813
专利权的终止
2012-07-04
授权
授权
2012-07-04
授权
授权
2009-04-15
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-04-15
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-02-18
公开
公开
2009-02-18
公开
公开
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机译: X射线掩模结构,用于制造X射线掩模结构的方法,使用该X射线掩模结构的X射线曝光设备和X射线曝光方法以及使用该X射线曝光方法制造的半导体器件
机译: 光掩模基板,光掩模基板形成部件,光掩模基板的制造方法,光掩模以及使用该光掩模的曝光方法
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