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使用掩模材料在基底上形成功能性材料的图案的方法

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摘要

本发明提供在基底(34)上形成功能性材料(46)的图案(55)以用于电子器件和组件的方法。所述方法使用具有浮雕结构的印模将掩模材料(32)转移到基底(34)上并且在基底(34)上形成开放区域(42)的图案。将功能性材料(46)施加到基底(34)上的至少开放区域(42)中。使粘合剂材料(52)接触与基底(34)相对的外表面(56)并且将粘合剂从基底分离，从而在基底(34)上形成功能性材料(46)的图案(55)。所述方法适合于制造用于电子器件和组件的微电路。

著录项

公开/公告号CN101641219B

专利类型发明专利
公开/公告日2012-05-09

原文格式PDF
申请/专利权人 E.I.内穆尔杜邦公司;
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申请/专利号CN200880009181.7
发明设计人 G·B·布朗谢特;李喜现;
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申请日2008-04-07
分类号
代理机构上海专利商标事务所有限公司;
代理人朱黎明
地址美国特拉华州
入库时间 2022-08-23 09:09:41

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2016-05-25

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B41M 3/00 授权公告日:20120509 终止日期:20150407 申请日:20080407

专利权的终止
2012-05-09

授权

授权
2010-06-09

实质审查的生效 IPC(主分类):B41M 3/00 申请日:20080407

实质审查的生效
2010-02-03

公开

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