首页> 外国专利> MASK FOR FORMING ORGANIC LAYER PATTERN, METHOD FOR FORMING ORGANIC LAYER PATTERN BY USING MASK FOR FORMING ORGANIC LAYER PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY DEVICE BY USING MASK FOR FORMING ORGANIC LAYER PATTERN

MASK FOR FORMING ORGANIC LAYER PATTERN, METHOD FOR FORMING ORGANIC LAYER PATTERN BY USING MASK FOR FORMING ORGANIC LAYER PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY DEVICE BY USING MASK FOR FORMING ORGANIC LAYER PATTERN

机译:用于形成有机层图案的掩模,通过使用用于形成有机层图案的掩模来形成有机层图案的方法,以及通过使用用于形成有机层图案的掩模来制造有机发光显示装置的方法

摘要

A mask for forming an organic layer pattern according to an embodiment of the present invention comprises: a first substrate for forming an organic layer pattern; a photo mask having a reflecting layer formed on the first substrate; and a donor substrate having a second substrate and an absorbing layer formed on the second substrate wherein the donor substrate is separated from the photo mask and located on an upper portion. The photo mask comprises: a reflecting unit for reflecting light incident on the photo mask; and a light concentrating unit for concentrating the light and transferring the light to the donor substrate.;COPYRIGHT KIPO 2015
机译:根据本发明实施例的用于形成有机层图案的掩模包括:用于形成有机层图案的第一基板;以及用于形成有机层图案的第一基板。在第一基板上形成有反射层的光掩模。供体基板,其具有第二基板和形成在第二基板上的吸收层,其中供体基板与光掩模分离并位于上部。所述光掩模包括:反射单元,用于反射入射在所述光掩模上的光。 COPYRIGHT KIPO 2015;以及聚光单元,用于聚光并将其传输到供体基板。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号