公开/公告号CN101144979B
专利类型发明专利
公开/公告日2012-04-04
原文格式PDF
申请/专利权人 AZ电子材料(日本)株式会社;
申请/专利号CN200710146009.3
发明设计人 拉尔夫·格罗滕穆勒;沃尔夫冈·察恩;高桥修一;
申请日2007-09-03
分类号G03F7/004(20060101);G03F7/00(20060101);H01L21/027(20060101);
代理机构11216 北京三幸商标专利事务所;
代理人刘激扬
地址 日本国东京都
入库时间 2022-08-23 09:09:27
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-04-29
专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/004 变更前: 变更后: 登记生效日:20150407 申请日:20070903
专利申请权、专利权的转移
2012-07-04
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/004 变更前: 变更后: 申请日:20070903
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2012-04-04
授权
授权
2009-02-18
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-03-19
公开
公开
机译: 光致抗蚀剂组合物和光致抗蚀剂涂层,制造蚀刻光致抗蚀剂涂层的方法和蚀刻的Si层,以及使用它们的制造装置的方法
机译: 包含有机胺化合物,乙二醇醚化合物,水溶性有机溶剂,缓蚀剂和去离子水的光致抗蚀剂溶解溶液组合物,以及使用该组合物的光致抗蚀剂溶解方法
机译: 用于组合物的光致抗蚀剂去除,用于组合物的光致抗蚀剂去除的制造方法,使用用于组合物的光致抗蚀剂去除的光致抗蚀剂的去除方法以及半导体器件的制造方法