首页> 中国专利> 光致抗蚀剂用溶剂以及采用它的狭缝涂敷用光致抗蚀剂组合物

光致抗蚀剂用溶剂以及采用它的狭缝涂敷用光致抗蚀剂组合物

摘要

本发明涉及一种光致抗蚀剂用溶剂以及采用它的狭缝涂敷用光致抗蚀剂组合物。提供不降低固体成分含量、能够进行狭缝涂敷的高速涂敷的光致抗蚀剂用溶剂,以及能够通过狭缝涂敷进行高速涂敷的光致抗蚀剂组合物。该溶剂是可以通过狭缝涂敷法涂敷于基板的光致抗蚀剂组合物中使用的光致抗蚀剂用溶剂,其特征在于,基于该溶剂的重量,10重量%以上为20℃下粘度为1.1cp以下的低粘度溶剂。该光致抗蚀剂组合物含有上述溶剂、碱可溶性树脂以及光敏性物质。

著录项

  • 公开/公告号CN101144979B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-04-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 AZ电子材料(日本)株式会社;

    申请/专利号CN200710146009.3

  • 申请日2007-09-03

  • 分类号G03F7/004(20060101);G03F7/00(20060101);H01L21/027(20060101);

  • 代理机构11216 北京三幸商标专利事务所;

  • 代理人刘激扬

  • 地址 日本国东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:09:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-04-29

    专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/004 变更前: 变更后: 登记生效日:20150407 申请日:20070903

    专利申请权、专利权的转移

  • 2012-07-04

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/004 变更前: 变更后: 申请日:20070903

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2012-04-04

    授权

    授权

  • 2009-02-18

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-03-19

    公开

    公开

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