法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-07-06
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02F 1/35 授权公告日:20120208 终止日期:20150522 申请日:20090522
专利权的终止
2012-02-08
授权
授权
2009-12-23
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-10-28
公开
公开
机译: 高频离子注入钝化半导体器件和微波集成电路以及用于制造相同器件的平面工艺
机译: 高频离子注入钝化半导体器件和微波集成电路,以及用于制造两者的平面工艺
机译: 用于制造高频离子注入钝化半导体器件和微波集成电路的平面工艺