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基于边带注入锁定用于产生高频微波的集成光电子器件

摘要

基于边带注入锁定用于产生高频微波的集成光电子器件,属于微波光子学领域的光电子器件制备技术领域,尤其涉及基于边带注入锁定用于产生高频微波的集成光电子器件。该集成光电子器件将两个从激光器集成在同一个衬底上,在衬底上依次外延下波导层、多量子阱有源层、光栅层、上波导层、上包层、欧姆接触层,通过Y分支波导或多模干涉器将两个从激光器耦合在一起,两个从激光器工作在直流状态,所述集成光电子器件的Y分支波导端面采用抗反射镀膜,控制光的反射率在0.01~10%之间,从而实现外置主激光器调制边带的注入,进行注入锁定;再通过Y分支波导或多模干涉器耦合输出,进行拍差,就可以获得高频微波。本发明还可以进一步集成一个主激光器以及一个电吸收调制器,进一步提高集成度。本发明结构新颖,制作工艺简单,将在未来的高速通讯领域具有良好的应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN101566777B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-02-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 清华大学;

    申请/专利号CN200910085479.2

  • 发明设计人 孙长征;黄缙;熊兵;罗毅;

    申请日2009-05-22

  • 分类号G02F1/35(20060101);H01S5/026(20060101);H04B10/155(20060101);

  • 代理机构11246 北京众合诚成知识产权代理有限公司;

  • 代理人朱琨

  • 地址 100084 北京市100084-82信箱

  • 入库时间 2022-08-23 09:08:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-07-06

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02F 1/35 授权公告日:20120208 终止日期:20150522 申请日:20090522

    专利权的终止

  • 2012-02-08

    授权

    授权

  • 2009-12-23

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-10-28

    公开

    公开

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