公开/公告号CN102054703B
专利类型发明专利
公开/公告日2012-02-22
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院微电子研究所;
申请/专利号CN200910236720.7
申请日2009-10-28
分类号H01L21/336(20060101);H01L21/28(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人周长兴
地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号
入库时间 2022-08-23 09:08:49
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-01-21
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L21/336 变更前: 变更后: 申请日:20091028
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2015-07-29
专利权的转移 IPC(主分类):H01L21/336 变更前: 变更后: 登记生效日:20150708 申请日:20091028
专利申请权、专利权的转移
2015-07-29
专利权的转移 IPC(主分类):H01L 21/336 变更前: 变更后: 登记生效日:20150708 申请日:20091028
专利申请权、专利权的转移
2012-02-22
授权
授权
2012-02-22
授权
授权
2011-06-29
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/336 申请日:20091028
实质审查的生效
2011-06-29
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/336 申请日:20091028
实质审查的生效
2011-05-11
公开
公开
2011-05-11
公开
公开
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机译: 用于在单个CMP模块中平坦化晶片的线性化学机械平坦化(CMP)系统和方法
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