测量自偏压来监控等离子体处理系统中处理的方法和装置

摘要

公开了一种用于在具有处理室的等离子体系统中原位监控处理的方法。该方法包括在等离子体处理室中定位衬底(802)。该方法还包括在将衬底设置在等离子体处理室内时在等离子体处理室中撞击等离子体(804)。该方法进一步包括获得撞击等离子体之后存在的测量自偏压，该测量自偏压具有当等离子体不存在时的第一值以及当等离子体存在时的不同于第一值的至少一个第二值(806)。该方法还包括如果测量自偏压值在预定自偏压值包络之外(808)，则使测量自偏压值与处理的属性相关(810、812)。