测量等离子体频率监控等离子体处理系统中处理的方法和装置

摘要

公开了一种用于在具有处理室的等离子体系统中原位监控处理的方法。该方法包括在等离子体处理室中定位衬底。该方法还包括在将衬底设置在等离子体处理室内时在等离子体处理室中撞击等离子体。该方法进一步包括获得撞击等离子体之后存在的测量等离子体频率，该等离子体频率值具有当等离子体不存在时的第一值以及当等离子体存在时的不同于第一值的至少一个第二值。该方法还包括如果等离子体频率值在预定等离子体频率值包络之外，则使测量等离子体频率值与处理的属性相关。