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电脉冲诱发电阻转变特性的二元氧化物RRAM存储单元

摘要

本发明涉及一种电脉冲诱发电阻转变特性的二元氧化物RRAM的存储单元,在衬底上依次形成底电极层、阻变氧化物层和顶电极层,其特征在于在阻变氧化物层和顶电极层在界面处形成一储氧层,提供氧离子存储和释放,所构成的存储单元为多层膜结构。在所述的存储单元中储氧层为TiOx、CuxO、WOx、AlOx、TiON或AZO。在施加脉冲电场条件下,利用储氧层实现脉冲触发条件下的电阻转变特性,从而实现实际应用中高速存储的目的。本发明的存储单元结构的最大优点是基于顶电极层为整个结构的电阻转变特性提供储氧层,通过界面处的氧化还原反应获得一种性能稳定且可高速擦/写的电阻式存储器用多层结构,有利于RRAM存储器件高速性能的实现。

著录项

  • 公开/公告号CN101621115B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-08-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院上海硅酸盐研究所;

    申请/专利号CN200910056301.5

  • 申请日2009-08-12

  • 分类号H01L45/00(20060101);G11C11/56(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 200050 上海市长宁区定西路1295号

  • 入库时间 2022-08-23 09:07:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-01-25

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L 45/00 登记生效日:20170103 变更前: 变更后: 申请日:20090812

    专利申请权、专利权的转移

  • 2011-08-03

    授权

    授权

  • 2010-03-24

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2010-01-06

    公开

    公开

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