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聚焦确定法,器件制造法和掩模

摘要

器件制造法使用的一个或多个聚焦设置的确定可通过印制多个具有不同聚焦设置的目标标记,并使用散射计,如离线的散射计,测量作为聚焦指示的目标标记的性质。

著录项

  • 公开/公告号CN1892440B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-03-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN200610100136.5

  • 申请日2006-06-29

  • 分类号

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人王波波

  • 地址 荷兰费尔德霍芬

  • 入库时间 2022-08-23 09:06:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-03-02

    授权

    授权

  • 2008-06-25

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-01-10

    公开

    公开

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