公开/公告号CN1892440B
专利类型发明专利
公开/公告日2011-03-02
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
申请/专利号CN200610100136.5
申请日2006-06-29
分类号
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人王波波
地址 荷兰费尔德霍芬
入库时间 2022-08-23 09:06:02
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-03-02
授权
授权
2008-06-25
实质审查的生效
实质审查的生效
2007-01-10
公开
公开
机译: 掩模坯料基板的制造方法,多层反射膜涂覆基板的制造方法,反射型掩模坯料的制造方法,反射型掩模制造法,透射型掩模坯料的制造方法,透射型掩模制造法,以及半导体装置的制造方法
机译: 校准曲线测定法碳浓度测定法和硅晶片制造法
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