灰色调掩模板及灰色调掩模及它们的制造法、图案复制法

摘要

一种灰色调掩模板，其用于根据部位选择性地减少对被复制体的曝光光线的照射量，并在被复制体上形成包含残膜值不同的部分的所希望的复制图案的灰色调掩模的制造中使用，该灰色调掩模板在透明基板上具有半透光膜和遮光膜，半透光膜在基板面内至少形成掩模图案的区域内的曝光光线透过率的分布在4.0％以内。通过在该掩模板上实施规定的构图，形成遮光部、透光部、由半透光膜构成的半透光部，由此得到灰色调掩模。