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机译:单级灰色调设计。掩模数据准备和模式传输
Reimer K.; Henke W.; Quenzer H.J.; Pilz W.; Wagner B.;
机译:灰色调掩膜的制造和厚光刻胶中的图案转移
机译:FFS TFT-LCD中的新型四面膜工艺,采用灰色调掩模,具有最佳的多缝设计
机译:带编码灰阶掩模的混合微光学元件设计
机译:一级灰度光刻:掩模数据准备和图案转移
机译:混合聚合物掩模,可将纳米级图案转移到钛表面
机译:快速模板掩膜制造实现了一步式无聚合物石墨烯图案化和柔性石墨烯器件的直接转移
机译:一级灰色口径 - 掩盖数据准备和模式转移
机译:灰阶掩模缺陷校正方法,灰阶掩模制造方法,灰阶掩模和图案转印方法
机译:灰度掩模检查方法,用于液晶装置制造的灰度掩模制造方法以及图案转印方法
机译:灰阶掩模缺陷校正方法,灰阶掩模制造方法和图案转印方法
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