公开/公告号CN1823304B
专利类型发明专利
公开/公告日2010-12-22
原文格式PDF
申请/专利权人 AZ电子材料(日本)株式会社;
申请/专利号CN200480020562.7
申请日2004-06-04
分类号G03F7/40(20060101);H01L21/027(20060101);
代理机构11216 北京三幸商标专利事务所;
代理人刘激扬
地址 日本国东京都
入库时间 2022-08-23 09:05:51
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-05-06
专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/40 变更前: 变更后: 登记生效日:20150413 申请日:20040604
专利申请权、专利权的转移
2012-06-27
专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/40 变更前: 变更后: 登记生效日:20120522 申请日:20040604
专利申请权、专利权的转移
2010-12-22
授权
授权
2006-10-18
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-08-23
公开
公开
机译: 精细图案形成材料,使用该精细图案形成材料的精细电镀图案形成方法以及使用该精细图案形成材料的半导体器件的制造方法
机译: 精细图案形成材料和使用该精细图案形成材料的精细图案形成方法
机译: 干蚀刻法在氮化钛层上形成半导体器件的精细图形以形成精细图形