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机译:电化学方法在硅片上形成精细的图形结构
高野 奈央;
机译:侧壁图案 - 一种新的晶片级法,用于垂直硅结构的精确图案化
机译:使用新型的硅图形化金属和玻璃晶圆DRIE制作无缺口硅结构
机译:沉积在图案化晶圆上的硅的电化学性质
机译:硅晶片中金属纳米结构/纳米粒子形成的电化学方法
机译:通过热化学气相沉积(CVD)在图案化的硅晶片上生长碳纳米管。
机译:使用使用AuPdPtCu和IR和IR和IR的MACE方法自对准高纵横比硅3D结构的晶圆级集成
机译:电化学蚀刻硅外延晶片的微观和纳米结构
机译:用于精细图案形成的含硅组合物以及使用其的精细图案形成方法
机译:含硅的精细图案形成组合物和使用相同的精细图案形成方法
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