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单组分CMP浆料的氧化铈粉末及其制备方法、浆料组合物及使用该浆料的浅槽隔离方法

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本发明公开了用于单组分CMP浆料的氧化铈粉末，所述氧化铈粉末的比表面积为5m

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公开/公告号CN101258106B

专利类型发明专利
公开/公告日2010-09-08

原文格式PDF
申请/专利权人 LG化学株式会社;
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申请/专利号CN200680032288.4
发明设计人曹昇范;鲁埈硕;申东穆;金种珌;吴明焕;金长烈;崔银美;高敏镇;
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申请日2006-09-01
分类号
代理机构北京金信立方知识产权代理有限公司;
代理人朱梅
地址韩国首尔
入库时间 2022-08-23 09:05:13

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2010-09-08

授权

授权
2008-10-29

实质审查的生效

实质审查的生效
2008-09-03

公开

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1. 单组分CMP浆料的氧化铈粉末及其制备方法、浆料组合物及使用该浆料的浅槽隔离方法 [P] . 中国专利： CN101258106B . 2010.09.08
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3. Cerium oxide powder for one-component CMP slurry, preparation method thereof, one-component CMP slurry composition comprising the same, and method of shallow trench isolation using the slurry [P] . 美国专利： US7524475B2 . 2009-04-28

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4. Cerium oxide powder for one-component CMP slurry, preparation method thereof, one-component CMP slurry composition comprising the same, and method of shallow trench isolation using the slurry [P] . 美国专利： US2007081931A1 . 2007-04-12

机译：用于单组分CMP浆料的氧化铈粉末，其制备方法，包括该铈氧化物粉末的单组分CMP浆料组合物以及使用该浆料的浅沟槽隔离的方法
5. Cerium oxide powder for one-component CMP slurry, method for producing the same, one-component CMP slurry composition containing the same, and method for separating shallow trench elements using the slurry [P] . 日本专利： JP4851524B2 . 2012-01-11

机译：用于一组分CMP浆料的氧化铈粉末，其制备方法，包含其的一组分CMP浆料组合物以及使用该浆料分离浅沟槽元件的方法