首页> 中国专利> 光掩模和采用该光掩模的薄膜晶体管阵列面板的制造方法

光掩模和采用该光掩模的薄膜晶体管阵列面板的制造方法

摘要

本发明公开了一种光掩模。该掩模包括:透光区域和半透明区域,其中,半透明区域包括多个阻挡光的阻光部分,其中,阻光部分具有阻挡不同量的光的多个区域。通过使用这种类型的光掩模,光阻剂膜的基本上平坦的层能平坦地沉积在不平坦表面的顶部上。平坦的光阻剂膜降低了工艺成本并且提高了面板制造过程的可靠性。

著录项

  • 公开/公告号CN1808266B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-10-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星电子株式会社;

    申请/专利号CN200510132004.6

  • 申请日2005-12-16

  • 分类号G03F1/00(20060101);G03F7/20(20060101);H01L21/027(20060101);H01L29/786(20060101);

  • 代理机构11286 北京铭硕知识产权代理有限公司;

  • 代理人韩明星;邱玲

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2022-08-23 09:05:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-01-23

    专利权的转移 IPC(主分类):G03F1/00 变更前: 变更后: 登记生效日:20121219 申请日:20051216

    专利申请权、专利权的转移

  • 2013-01-23

    专利权的转移 IPC(主分类):G03F 1/00 变更前: 变更后: 登记生效日:20121219 申请日:20051216

    专利申请权、专利权的转移

  • 2010-10-06

    授权

    授权

  • 2010-10-06

    授权

    授权

  • 2008-02-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-02-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-07-26

    公开

    公开

  • 2006-07-26

    公开

    公开

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