法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-02-06
专利权的转移 IPC(主分类):H01L29/786 变更前: 变更后: 登记生效日:20130106 申请日:20020124
专利申请权、专利权的转移
2013-02-06
专利权的转移 IPC(主分类):H01L 29/786 变更前: 变更后: 登记生效日:20130106 申请日:20020124
专利申请权、专利权的转移
2010-05-12
授权
授权
2010-05-12
授权
授权
2005-04-27
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-04-27
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-02-23
公开
公开
2005-02-23
公开
公开
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机译: 用于结晶多晶硅的掩模以及利用该掩模形成薄膜晶体管的方法
机译: 用于结晶多晶硅的掩模和利用该掩模形成薄膜晶体管的方法
机译: 用于最小化硅结晶晶粒之间的边界的掩模,一种利用掩模形成多晶硅层的方法,一种包含多晶硅层的LCD以及一种制造LCD的方法