法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-04-27
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 授权公告日:20100421 终止日期:20150303 申请日:20050303
专利权的终止
2010-04-21
授权
授权
2008-03-05
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-09-07
公开
公开
机译: 在制造动态RAM期间用于微光刻投影照明系统的照明透镜具有滤光片,例如中性灰色滤光片,以及偏振光滤光片,排列在玻璃棒后面或附近的光瞳平面中
机译: 用于投影曝光系统的照明光学单元,具有光瞳刻面镜,该光瞳刻面镜被设置为使得内部组中的光瞳刻面的数量被设置为与外部组中的光瞳刻面的数量不同。
机译: 用于半导体微光刻中的投影照明系统的投影透镜具有校正元件,例如
光学元件。平面平行板,布置在区域中,对光瞳水平光学封闭