公开/公告号CN1609715A
专利类型发明专利
公开/公告日2005-04-27
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
申请/专利号CN200410095148.4
发明设计人 L·P·巴克;F·J·P·舒尔曼斯;
申请日2004-10-19
分类号G03F7/20;H01L21/00;
代理机构中国专利代理(香港)有限公司;
代理人肖春京
地址 荷兰维尔德霍芬
入库时间 2023-12-17 16:08:21
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-05-11
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F7/20 公开日:20050427 申请日:20041019
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-07-26
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-04-27
公开
公开
机译: 用于微光刻的投影物镜,包括用于这种反射镜的EUV波长范围内的反射镜,以及具有诸如此类的投影物镜的用于微光刻的投影曝光装置。
机译: 用于EUV波长范围的反射镜,包括这种反射镜的用于微光刻的投影物镜以及包括这种投影物镜的用于微光刻的投影曝光设备
机译: 用于集成电路制造过程中的极端UV光刻系统的反射镜组件,具有致动装置,该致动装置通过在反射镜基板内表面上的接触元件上施加压力将流体引入腔体中