具有不均匀间隔的凹槽的化学机械抛光垫

摘要

一种具有圆形抛光轨迹(124)和同心中心(116)的化学机械抛光垫(100)。所述抛光垫(100)具有抛光层(104)，该抛光层(104)具有凹槽图案，所述凹槽图案包括多个凹槽(128)，每个凹槽(128)各自延伸穿过所述抛光轨迹(124)。所述多个凹槽具有沿着围绕所述抛光垫(100)的同心中心(116)的圆周方向变化的角节距，所述晶片轨迹(124)内所有相邻凹槽(128)之间的径向节距是不相等的。