用于控制气相处理的系统和方法

摘要

一种半导体处理装置可以包含反应器组件，所述反应器组件包括大小设定成将衬底接纳在其中的反应室。排气管线可以与所述反应室流体连通，所述排气管线被配置成将气体传递出所述反应室。阀门可以沿着所述排气管线安置以调节所述气体沿着所述排气管线的流动。控制系统可以被配置成在开放回路控制模式下操作，以控制所述阀门的操作。