公开/公告号CN114367920B
专利类型发明专利
公开/公告日2022.10.21
原文格式PDF
申请/专利权人 华海清科股份有限公司;
申请/专利号CN202111634298.8
申请日2021.12.29
分类号B24B37/34;B24B57/02;B24B37/10;B24B53/017;
代理机构
代理人
地址 300350 天津市津南区咸水沽海河科技园聚兴道11号
入库时间 2022-11-28 17:52:15
机译: 使用固定研磨垫和铜层化学机械抛光液的铜化学机械抛光工艺,特别适用于使用固定研磨垫的化学机械抛光
机译: 使用固定研磨垫和钨层化学机械抛光液的钨化学机械抛光工艺,特别适用于使用固定研磨垫的化学机械抛光
机译: 使用固定研磨垫和钨层化学机械抛光液的钨化学机械抛光工艺,特别适用于使用固定研磨垫的化学机械抛光