用于化学机械抛光的抛光液防溅装置和化学机械抛光设备

摘要

本发明公开了一种用于化学机械抛光的抛光液防溅装置和化学机械抛光设备，其中，抛光液防溅装置包括：环形挡圈，其环绕设置于抛光盘的外周侧，其配置有升降机构，可独立沿竖直方向移动以遮挡溅射的抛光液；导流槽组件，位于所述环形挡圈和所述抛光盘的下方，与所述环形挡圈形成迷宫密封，以遮挡所述环形挡圈底部与所述抛光盘之间的间隙，从而用于收集液体。