公开/公告号CN100538529C
专利类型发明授权
公开/公告日2009-09-09
原文格式PDF
申请/专利权人 日月光半导体制造股份有限公司;
申请/专利号CN200710137173.8
申请日2007-07-30
分类号G03F7/20(20060101);G03F7/038(20060101);G03F1/14(20060101);G03F1/00(20060101);
代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;
代理人陶凤波
地址 中国台湾高雄市
入库时间 2022-08-23 09:03:08
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-09-09
授权
授权
2008-04-16
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-02-20
公开
公开
机译: 利用改进的照明系统形成图案的光掩模,制造该光掩模的方法以及利用该光掩模形成图案的方法
机译: 用于通过热膨胀抑制覆盖图案变形的光掩模空白和光掩模以及利用光掩模空白来制造光掩模的方法
机译: 光掩模中的图案形状评价方法,光掩模,光掩模制造方法,光掩模图案形成方法和曝光方法