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李勇; 程秀兰;
上海交通大学,微电子学院,上海,200030;
上海凸版光掩模有限公司,上海,200233;
IP胶; 光掩模; 显影; 等离子表面预处理; 亲水性;
机译:曝光后烘烤/显影/光掩模制造工艺的清洁设备
机译:等离子唐纳反应器中HDPE粉末的短时等离子体表面改性-工艺,润湿性改善和老化效果
机译:激光工艺接近度校正,用于改善光掩模上的临界尺寸线性
机译:利用大气等离子体表面处理改善镀铜工艺
机译:利用激光诱导的等离子体对光刻光掩模上的纳米膜进行材料改变和无损伤纳米颗粒去除。
机译:铁氟龙/ SiO2双层钝化层可提高采用新型双光掩模自对准工艺制造的氧化物TFT的电气可靠性
机译:在药物载体表面调节局部溶剂组合物:二甲基亚砜/水混合物对多霉素-β-乳酰胶蛋白复合物的光共官能特性的影响
机译:利用正性光刻胶掩模技术制造低泄漏N沟道sOs晶体管的方法
机译:等离子体表面改性和有机硅玻璃膜的钝化,以改善硬掩模的附着力和优化的RIE工艺
机译:利用光刻胶的硬掩模代替光掩膜制造闪存的方法,以改善外围区域的门轮廓和CD分布
机译:增加光掩模使用寿命的方法和改善光掩模光学特性的方法
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