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TiAlN膜的铝含量控制

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摘要

沉积具有受控制量的碳的氮化铝钛膜的方法。所述方法包括将基板表面暴露于钛前驱物、氮反应物和铝前驱物，其中在每次暴露之间进行净化。

公开/公告号CN110709534B

专利类型发明专利
公开/公告日2022-07-15

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申请/专利权人应用材料公司;
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申请/专利号CN201880018717.5
发明设计人张闻宇;唐薇;杨逸雄;林政汉;徐翼;雷雨;吉田尚美;董琳;德鲁·菲利普斯;斯里维迪亚·纳塔拉詹;阿塔什·巴苏;卡利亚潘·穆图库马尔;大卫·汤普森;马伯方;
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申请日2018-03-02
分类号C23C16/34;C23C16/14;C23C16/44;C23C16/56;
代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司;
代理人徐金国;赵静
地址美国加利福尼亚州
入库时间 2022-09-06 00:34:49

1. TiAlN膜的铝含量控制 [P] . 中国专利： CN110709534B . 2022.07.15
2. TiAlN膜的铝含量控制 [P] . 中国专利： CN110709534A . 2020-01-17
3. Aluminum Content Control of TiAlN Films [P] . 韩国专利： KR20190121789A . 2019-10-28

机译： TiAlN薄膜的铝含量控制
4. ALUMINUM CONTENT CONTROL OF TiAlN FILMS [P] . 世界知识产权组织专利： WO2018169701A1 . 2018-09-20

机译： TiAlN薄膜的铝含量控制
5. METHOD FOR CONTROLLING THICKNESS AND ALUMINUM CONTENT OF DIFFUSED ALUMINIDE FILM [P] . 日本专利： JP2001064763A . 2001-03-13

机译：扩散铝膜厚度和铝含量的控制方法